セイナンコウギョウ
誠南工業株式会社
誠南工業株式会社（セイナンコウギョウ）は、大阪府大阪市住之江区北加賀屋４丁目３番２４号に所在する法人番号:1120001030999の法人です。
主な業種は製造業です。
2015年10月05日に法人番号が指定されました。
業種
- 製造業
更新日：2024年11月24日
誠南工業株式会社の基本情報
| 企業名 | 誠南工業株式会社 |
|---|---|
| 企業名カナ | セイナンコウギョウ |
| 法人番号 | 1120001030999 |
| 本社郵便番号 | 559-0011 |
| 本社住所 | 大阪府大阪市住之江区北加賀屋４丁目３番２４号 |
| 創業 | 1948年 |
| 設立 | 1960年04月13日 |
| 資本金 | － |
| 従業員数 | 22人 |
※企業によっては、一部項目の情報がない場合があります
誠南工業株式会社の業種・事業情報
業種
- 製造業
事業内容
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誠南工業株式会社の業績情報
売上（最大直近5期分）
誠南工業株式会社のその他周辺情報
| 平均継続勤務年数（男女別） | － |
|---|---|
| 労働者に占める女性労働者の割合 | － |
| 女性役員人数 | － |
| 役員全体人数（男女計） | － |
出典元情報：職場情報総合サイト
誠南工業株式会社と同じエリアの会社
誠南工業株式会社の認証・認可・届出情報
府省の届出・認定
（0件）
| 認定日 | 届出認定等 | 対象 | 部門 | 企業規模 | 府省 |
|---|
補助金
（18件）
| 認定日 | 補助金等 | 金額 | 対象 | 府省 | 備考 |
|---|---|---|---|---|---|
|
2020年04月01日 |
令和２年度中小企業経営支援等対策費補助金（戦略的基盤技術高度化支援事業）（植物成長促進による植物工場の生産性向上を実現する照射環境制御型プラズマ援用種子処理装置開発） |
3,202,661円 |
－ |
経済産業省 |
－ |
|
2019年06月04日 |
令和元年度中小企業経営支援等対策費補助金（戦略的基盤技術高度化支援事業）「最先端プラズマ・紫外線照射技術を併用したガス中のヒドロキシルラジカル生成プロセスを活用した制菌システムの開発」【一般財団法人大阪科学技術センター】 |
－ |
－ |
経済産業省 |
－ |
|
2019年04月01日 |
平成３１年度中小企業経営支援等対策費補助金（戦略的基盤技術高度化支援事業）（植物成長促進による植物工場の生産性向上を実現する照射環境制御型プラズマ援用種子処理装置開発） |
3,179,698円 |
－ |
経済産業省 |
－ |
|
2019年04月01日 |
平成３１年度中小企業経営支援等対策費補助金（戦略的基盤技術高度化支援事業）（継続事業）（反応性ヘリコン波プラズマプロセスを用いたミニマルファブ用ＭＥＭＳ向け高速エッチャーの開発） |
2,723,162円 |
－ |
経済産業省 |
－ |
|
2019年04月01日 |
平成３１年度中小企業経営支援等対策費補助金（戦略的基盤技術高度化支援事業）（植物成長促進による植物工場の生産性向上を実現する照射環境制御型プラズマ援用種子処理装置開発） |
－ |
－ |
経済産業省 |
－ |
|
－ |
令和２年度中小企業経営支援等対策費補助金（戦略的基盤技術高度化支援事業）（液体原料ガスを用いたミニマルファブ用プラズマ援用多結晶シリコン気相成長装置の開発） |
2,706,289円 |
－ |
経済産業省 |
－ |
|
－ |
令和２年度中小企業経営支援等対策費補助金（戦略的基盤技術高度化支援事業）（反応性ヘリコン波プラズマプロセスを用いたミニマルファブ用ＭＥＭＳ向け高速エッチャーの開発） |
2,706,202円 |
－ |
経済産業省 |
－ |
|
－ |
令和元年度中小企業経営支援等対策費補助金（戦略的基盤技術高度化支援事業）「次世代核酸創薬開発を加速させるデリバリーナノ粒子の製造システムの確立」【一般財団法人大阪科学技術センター】 |
－ |
－ |
経済産業省 |
－ |
|
－ |
令和２年度中小企業経営支援等対策費補助金（戦略的基盤技術高度化支援事業）「最先端プラズマ・紫外線照射技術を併用したガス中のヒドロキシルラジカル生成プロセスを活用した制菌システムの開発」【一般財団法人大阪科学技術センター】 |
23,209,316円 |
－ |
経済産業省 |
－ |
|
－ |
令和２年度中小企業経営支援等対策費補助金（戦略的基盤技術高度化支援事業）「次世代核酸創薬開発を加速させるデリバリーナノ粒子の製造システムの確立」【一般財団法人大阪科学技術センター】 |
－ |
－ |
経済産業省 |
－ |
|
－ |
令和３年度中小企業経営支援等対策費補助金（戦略的基盤技術高度化支援事業）「次世代核酸創薬開発を加速させるデリバリーナノ粒子の製造システムの確立」【一般財団法人大阪科学技術センター】 |
2,599,916円 |
－ |
経済産業省 |
－ |
|
－ |
令和３年度中小企業経営支援等対策費補助金（戦略的基盤技術高度化支援事業）「最先端プラズマ・紫外線照射技術を併用したガス中のヒドロキシルラジカル生成プロセスを活用した制菌システムの開発」【一般財団法人大阪科学技術センター】 |
25,593,162円 |
－ |
経済産業省 |
－ |
|
－ |
平成２９年度中小企業経営支援等対策費補助金（戦略的基盤技術高度化支援事業）（準共鳴型電子サイクロトロン共鳴技術に基づく小型・高密度プラズマ源と、これをコア技術とする３ＤＩＣ作製を目的とした高速ミニマルエッチング装置の開発） |
－ |
中小企業経営支援等対策費補助金円 |
経済産業省 |
－ |
|
－ |
［第五回］令和２年度事業再構築補助金（交付申請等） |
40,000,000円 |
－ |
中小企業庁 |
－ |
|
－ |
平成２９年度中小企業経営支援等対策費補助金（戦略的基盤技術高度化支援事業）（継続事業）（ヘリコン波プラズマ技術を用いたミニマルファブ用超高速マルチスパッタ装置の開発） |
－ |
中小企業経営支援等対策費補助金円 |
経済産業省 |
－ |
|
－ |
平成２９年度中小企業経営支援等対策費補助金（戦略的基盤技術高度化支援事業）（継続事業）（マイクロ波励起プラズマを用いた低ダメージ薄膜形成用ミニマル装置の開発） |
－ |
中小企業経営支援等対策費補助金円 |
経済産業省 |
－ |
|
－ |
令和元年度中小企業経営支援等対策費補助金（戦略的基盤技術高度化支援事業）（液体原料ガスを用いたミニマルファブ用プラズマ援用多結晶シリコン気相成長装置の開発） |
－ |
－ |
経済産業省 |
－ |
|
－ |
令和元年度中小企業経営支援等対策費補助金（戦略的基盤技術高度化支援事業）「最先端プラズマ・紫外線照射技術を併用したガス中のヒドロキシルラジカル生成プロセスを活用した制菌システムの開発」【一般財団法人大阪科学技術センター】 |
－ |
－ |
経済産業省 |
－ |
表彰
（0件）
| 年月日 | 表彰名 | 受賞対象 | 部門 | 府省 |
|---|
全省庁統一資格
（3件）
| 資格の種類 | 資格等級 | 営業品目 |
|---|---|---|
|
物品の製造 |
C |
精密機器類、医療用機器類、その他機器類 |
|
物品の販売 |
C |
精密機器類、医療用機器類、その他機器類 |
|
役務の提供等 |
C |
写真・製図、調査・研究、その他 |
調達情報
（2件）
| 受注日 | 事業名 | 金額 | 府省 |
|---|---|---|---|
|
2017年10月19日 |
真空蒸着装置 |
1,771,200円 |
防衛省 |
|
2016年09月13日 |
制御装置修理１式 |
1,049,760円 |
防衛省 |
省庁別調達数（上位5）
出典元情報：法人番号システム、全省庁統一資格
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